x荧光膜厚仪 2000年前后,国内电子、通信行业的迅猛发展,带来电镀行业的广泛需求。应国际贸易和质量体系认证的需求,许多企业工厂纷纷购置了相关的镀层厚度检测仪器和设备,同时也带来镀层膜厚量值传递和溯源问题。当然,有些外资企业,通过仪器自带的标准器直接溯源到国外,而大部分企业部门,则处于自行封闭测量和不做量值溯源的状况,国家没有一个明确的量值传递体系,镀层膜厚的量值处于一种混乱的状态。
因此2005-2007年间经过购置相关测量设备和研制标准器及测量方法的研究，中国计量科学研究院首先建立了基于x射线荧光分析方法的镀层膜厚标准装置，用于镀层膜厚量值得测量和校准，为镀层膜厚量值的溯源提供了一种准确有效的技术方法。
x荧光膜厚仪分析:
元素范围：铝13到铀92。
x射线激发能量：50 W(50 kv和1 ma)钨靶射线管
探测器：硅PIN检测器250 ev的分辨率或更高的分辨率
测量的分析层和元素：5层(4层镀层+基材)和10种元素在每个镀层成分分析的同时多达25元素
过滤器/准直器：4个初级滤波器,4个电动准直器（0.1 0.2 0.3 1.5mm）
聚焦:多固定聚焦与激光系统
数字脉冲处理:4096 多通道数字分析器与自动信号处理，包括X射线时间修正和防X射线积累
电脑:英特尔酷睿i5 3470处理器(3.2 ghz),8 gb DDR3内存,微软Windows 7专业64位等效
镜头:1/4 " cmos - 1280 x720 VGA分辨率
电源:150 w、100 ~ 240伏,频率范围47赫兹到63赫兹
工作环境:50°F(10°C)到104°F(40°C)小于98% RH,无冷凝水
重量:32公斤
内部尺寸:高:140毫米(5.5”),宽:310毫米(12),深:210毫米(8.3”) 140*310mm
外形尺寸:高:450毫米(18英寸),宽:450毫米(18),深:600毫米(24) 450*450mm
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